基本信息:
- 专利标题： High Resolution Shadow Mask with Tapered Pixel Openings
- 申请号：US16178388 申请日：2018-11-01
- 公开(公告)号：US20190131528A1 公开(公告)日：2019-05-02
- 发明人： Evan P. DONOGHUE , Ilyas I. KHAYRULLIN , Kerry TICE , Tariq ALI , Qi WANG , Fridrich VAZAN , Amalkumar P. GHOSH
- 申请人： eMagin Corporation
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00 ; C23C14/04 ; H01L27/32 ; H01L51/56
摘要：
Aspects of the present disclosure are directed to systems, method, and structures including a high-resolution shadow mask with tapered aperture/pixel openings that advantageously overcomes problems plaguing the prior art namely shadowing, sagging, and fragility.
公开/授权文献:
- US11121321B2 High resolution shadow mask with tapered pixel openings 公开/授权日：2021-09-14
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L51/00 | 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备 |