基本信息:
- 专利标题： High Resolution Projection Micro-Stereolithography System And Method
- 专利标题（中）：高分辨率投影微立体定向系统及方法
- 申请号：US15352051 申请日：2016-11-15
- 公开(公告)号：US20170057162A1 公开(公告)日：2017-03-02
- 发明人： Christopher M. Spadaccini , Todd Weisgraber , George Farquar , Steven Gemberling , Nicholas Fang , Matthew Alonso , Jun Xu , Howon Lee
- 申请人： Christopher M. Spadaccini , Todd Weisgraber , George Farquar , Steven Gemberling , Nicholas Fang , Matthew Alonso , Jun Xu , Howon Lee
- 主分类号： B29C67/00
- IPC分类号： B29C67/00 ; B33Y30/00 ; G02B5/00 ; G03H1/04 ; G02B27/56 ; G02B1/00 ; B33Y10/00 ; G03H1/00
摘要：
A high-resolution PμSL system and method incorporating one or more of the following features with a standard PμSL system using a SLM projected digital image to form components in a stereolithographic bath: a far-field superlens for producing sub-diffraction-limited features, multiple spatial light modulators (SLM) to generate spatially-controlled three-dimensional interference holograms with nanoscale features, and the integration of microfluidic components into the resin bath of a PμSL system to fabricate microstructures of different materials.
摘要（中）：
高分辨率PμSL系统和方法将一个或多个以下特征与标准PμSL系统结合使用SLM投影数字图像以在立体溶液浴中形成组件：用于产生亚衍射限制特征的多场超声 空间光调制器（SLM），以产生具有纳米尺度特征的空间控制的三维干涉全息图，以及将微流体成分整合到PμSL系统的树脂浴中，以制造不同材料的微结构。