发明申请
US20160195822A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS, PROGRAMMABLE PATTERNING DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： LITHOGRAPHIC APPARATUS, PROGRAMMABLE PATTERNING DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD
- 专利标题（中）：光栅设备，可编程格式设备和光刻方法
- 申请号：US14911929 申请日：2014-07-11
- 公开(公告)号：US20160195822A1 公开(公告)日：2016-07-07
- 发明人： Franciscus Johannes VAN DE KERKHOF
- 申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 国际申请： PCT/EP2014/064923 WO 20140711
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
A lithographic apparatus and programmable patterning device is disclosed that includes a modulator configured to expose an exposure area of the substrate to a plurality of beams modulated according to a desired pattern and a projection system configured to project the modulated beams onto the substrate. The modulator includes a plurality of VECSELs or VCSELs. The projection system may include a zone plate array that is oscillated in a Lissajous pattern. The zone plate array may include lenses arranged in a two-dimensional array where the lenses are arranged in a triangular layout. A lithographic system may include a plurality of the lithographic apparatuses, at least one lithographic apparatus being arranged above another lithographic apparatus.
摘要（中）：
公开了一种光刻设备和可编程图案形成装置，其包括：调制器，被配置为将基板的曝光区域暴露于根据期望图案调制的多个光束;以及投影系统，其配置成将经调制的光束投影到基板上。 调制器包括多个VECSEL或VCSEL。 投影系统可以包括以李萨如图案振荡的区域板阵列。 区域板阵列可以包括以二维阵列布置的透镜，其中透镜以三角形布局布置。 光刻系统可以包括多个光刻设备，至少一个光刻设备布置在另一个光刻设备的上方。