基本信息:
- 专利标题： LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题（中）：LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
- 申请号：US14975513 申请日：2015-12-18
- 公开(公告)号：US20160103399A1 公开(公告)日：2016-04-14
- 发明人： Bob STREEFKERK , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders , Roelof Frederik DE Graaf , Christiaan Alexander Hoogendam , Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens , Michel Riepen
- 申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
An immersion lithographic apparatus has adaptations to prevent or reduce bubble formation in one or more gaps in the substrate table by preventing bubbles escaping from the gap into the beam path and/or extracting bubbles that may form in the gap.
摘要（中）：
浸没式光刻设备具有通过防止气泡从间隙中流入光束路径和/或提取可能在间隙中形成的气泡的方法来适应防止或减少衬底台中的一个或多个间隙中的气泡形成。
公开/授权文献:
- US09606449B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2017-03-28