基本信息:
- 专利标题： ANTI-REFLECTION FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
- 专利标题（中）：防反射膜及其制造方法
- 申请号：US13702908 申请日：2011-07-08
- 公开(公告)号：US20130078440A1 公开(公告)日：2013-03-28
- 发明人： Heon Kim , Yeong-Rae Chang , Soon-Hwa Jung , Jin-Young Park , Boo-Kyung Kim
- 申请人： Heon Kim , Yeong-Rae Chang , Soon-Hwa Jung , Jin-Young Park , Boo-Kyung Kim
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 优先权： KR10-2010-0065981 20100708
- 国际申请： PCT/KR11/05020 WO 20110708
- 主分类号： C09D5/00
- IPC分类号： C09D5/00
摘要：
Disclosed is an anti-reflection film comprising a high refractive index layer comprising a first binder including a crosslinked polymer of a multifunctional (meth)acrylate compound, and nano silica particles dispersed in the first binder; and a low refractive index layer laminated on the high refractive index layer, and comprising a second binder including a crosslinked copolymer of a multifunctional (meth)acrylate compound and a fluorine-based (meth)acrylate compound, and hollow silica particles and hollow silica particles coated with a fluorine-based compound on the surface, which are dispersed in the second binder. Also disclosed is a method for manufacturing the anti-reflection film using a composition that is separated into at least two layers by phase separation after single layer coating by a more simplified process.
摘要（中）：
公开了一种抗反射膜，包括高折射率层，其包含第一粘合剂，其包含多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的交联聚合物和分散在第一粘合剂中的纳米二氧化硅颗粒; 以及层叠在高折射率层上的低折射率层，并且包含第二粘合剂，其包含多官能（甲基）丙烯酸酯化合物和氟系（甲基）丙烯酸酯化合物的交联共聚物，中空二氧化硅粒子和中空二氧化硅粒子 在表面上涂布氟基化合物，其分散在第二粘合剂中。 还公开了使用通过更简化的工艺在单层涂布之后通过相分离将其分离成至少两层的组合物来制造抗反射膜的方法。
公开/授权文献:
- US09127171B2 Anti-reflection film and method for manufacturing the same 公开/授权日：2015-09-08