发明申请
US20130030212A1 COMPOUND HAVING ALICYCLIC STRUCTURE, (METH)ACRYLIC ACID ESTER, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF THE (METH)ACRYLIC ACID ESTER
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： COMPOUND HAVING ALICYCLIC STRUCTURE, (METH)ACRYLIC ACID ESTER, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF THE (METH)ACRYLIC ACID ESTER
- 专利标题（中）：具有水性结构的化合物，（甲基）丙烯酸酯及其制备方法（甲基）丙烯酸酯
- 申请号：US13630978 申请日：2012-09-28
- 公开(公告)号：US20130030212A1 公开(公告)日：2013-01-31
- 发明人： Shinji TANAKA , Kazuya Fukushima , Katsuki Ito , Naoya Kawano , Hideki Yamane
- 申请人： IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
- 当前专利权人： IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2008-041139 20080222; JP2008-127294 20080514
- 主分类号： C07C69/604
- IPC分类号： C07C69/604 ; C07C43/196
摘要：
Provided are an alicyclic structure-containing compound, a (meth)acrylate, and a method for producing the ester. The compound and the ester are useful as a monomer and the like for a photoresist used in semiconductor manufacturing and excellent in solubility, compatibility, defect reduction, roughness improvement, and the like, realized by using an alicyclic structure-containing compound containing a linking group having an ester bond and/or a linking group having an ether bond, a (meth)acrylate derived from the alicyclic structure-containing compound, and a method for producing the ester.
摘要（中）：
提供含脂环结构的化合物，（甲基）丙烯酸酯，以及该酯的制造方法。 化合物和酯可用作半导体制造中使用的光致抗蚀剂的单体等，并且通过使用含有连接基团的含脂环结构的化合物实现的溶解性，相容性，缺陷减少，粗糙度改善等优异 具有酯键和/或具有醚键的连接基团，衍生自含脂环结构的化合物的（甲基）丙烯酸酯，以及该酯的制造方法。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C69/00 | 羧酸酯；碳酸酯或卤甲酸酯 |
| --------C07C69/02 | .无环饱和一元羧酯，其含有羧基连接非环碳原子或氢 |
| ----------C07C69/604 | ..含多于两个羧基的多元羧酸酯 |