发明申请
US20120276346A1 SELF-ASSEMBLY OF BLOCK COPOLYMERS ON TOPOGRAPHICALLY PATTERNED POLYMERIC SUBSTRATES
有权
基本信息:
- 专利标题： SELF-ASSEMBLY OF BLOCK COPOLYMERS ON TOPOGRAPHICALLY PATTERNED POLYMERIC SUBSTRATES
- 专利标题（中）：嵌入式聚合物基板上的嵌段共聚物自组装
- 申请号：US13546378 申请日：2012-07-11
- 公开(公告)号：US20120276346A1 公开(公告)日：2012-11-01
- 发明人： Thomas P. Russell , Soojin Park , Dong Hyun Lee , Ting Xu
- 申请人： Thomas P. Russell , Soojin Park , Dong Hyun Lee , Ting Xu
- 主分类号： B32B3/10
- IPC分类号： B32B3/10
摘要：
Highly-ordered block copolymer films are prepared by a method that includes forming a polymeric replica of a topographically patterned crystalline surface, forming a block copolymer film on the topographically patterned surface of the polymeric replica, and annealing the block copolymer film. The resulting structures can be used in a variety of different applications, including the fabrication of high density data storage media. The ability to use flexible polymers to form the polymeric replica facilitates industrial-scale processes utilizing the highly-ordered block copolymer films.
摘要（中）：
通过一种方法制备高度有序的嵌段共聚物膜，该方法包括形成地形图案化的结晶表面的聚合物复合物，在聚合物复合体的地形图形表面上形成嵌段共聚物膜，并退火嵌段共聚物膜。 所得到的结构可以用于各种不同的应用，包括制造高密度数据存储介质。 使用柔性聚合物形成聚合物复制品的能力有助于利用高阶嵌段共聚物膜的工业规模工艺。