基本信息:
- 专利标题： METHOD OF OPTICAL METROLOGY OPTIMIZATION USING RAY TRACING
- 专利标题（中）：使用雷达跟踪的光学计量优化方法
- 申请号：US12752080 申请日：2010-03-31
- 公开(公告)号：US20110246141A1 公开(公告)日：2011-10-06
- 发明人： SHIFANG LI
- 申请人： SHIFANG LI
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 主分类号： G06F17/10
- IPC分类号： G06F17/10
摘要：
Provided is a method for determining a profile of a sample structure on a workpiece using an optical metrology system that includes an optical metrology tool, an optical metrology model, and a profile extraction algorithm. The method comprises selecting a number of rays for the illumination beam, selecting beam propagation parameters, and using a processor, determining beam propagation parameters for each ray of the selected number of rays, determining the beam propagation parameters for each ray, calculating intensity and polarization of each ray, calculating total intensity and polarization of the diffraction beam, calculating a metrology output signal, extracting one or more profile parameters using the metrology output signal, calibration data, and a profile extraction algorithm.
摘要（中）：
提供了一种使用包括光学计量学工具，光学计量学模型和轮廓提取算法的光学测量系统来确定工件上的样品结构的轮廓的方法。 该方法包括选择用于照明光束的光线数量，选择光束传播参数，以及使用处理器，确定所选数量的光线的每个光线的光束传播参数，确定每个光线的光束传播参数，计算强度和偏振 计算衍射光束的总强度和极化，计算测量输出信号，使用测量输出信号，校准数据和轮廓提取算法提取一个或多个轮廓参数。