发明申请
US20110089137A1 SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM HAVING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN
有权
基本信息:
- 专利标题： SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM HAVING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN
- 专利标题（中）：基板液体处理装置，底板液体处理方法以及具有基板液化处理程序的存储介质
- 申请号：US12902721 申请日：2010-10-12
- 公开(公告)号：US20110089137A1 公开(公告)日：2011-04-21
- 发明人： Hiroshi TANAKA , Teruomi MINAMI , Yosuke KAWABUCHI , Norihiro ITO , Fumihiro KAMIMURA , Takashi YABUTA , Kazuki KOSAI , Takeshi UNO , Kenji SEKIGUCHI , Yasushi FUJII
- 申请人： Hiroshi TANAKA , Teruomi MINAMI , Yosuke KAWABUCHI , Norihiro ITO , Fumihiro KAMIMURA , Takashi YABUTA , Kazuki KOSAI , Takeshi UNO , Kenji SEKIGUCHI , Yasushi FUJII
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2009-239452 20091016; JP2010-180668 20100812
- 主分类号： H05K3/00
- IPC分类号： H05K3/00
摘要：
Provided are a substrate liquid processing apparatus, a substrate liquid processing method, and a computer readable storage medium having a substrate liquid processing program stored therein that can prevent the occurrence of the electrostatic breakdown caused by the discharge of electric charges in a substrate. The substrate liquid processing apparatus processes a circuit-forming surface of the substrate with a chemical liquid. Furthermore, prior to processing the substrate with the chemical liquid, the substrate liquid processing apparatus performs an anti-static process for an surface opposite to the circuit-forming surface of the substrate by an anti-static liquid, thereby emitting the electric charges on the substrate.
摘要（中）：
提供一种基板液体处理装置，基板液体处理方法以及其中存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质，其可以防止由基板中的电荷放电引起的静电破坏的发生。 基板液体处理装置用化学液体处理基板的电路形成表面。 此外，在用化学液体处理基板之前，基板液体处理装置通过防静电液体对与基板的电路形成面相反的表面进行防静电处理，从而将电荷 基质。
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05K | 印刷电路；电设备的外壳或结构零部件；电气元件组件的制造 |
| ------H05K3/00 | 用于制造印刷电路的设备或方法 |