发明申请
US20100167206A1 PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY SUBSTRATE USING THE PHOTORESIST COMPOSITION
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY SUBSTRATE USING THE PHOTORESIST COMPOSITION
- 专利标题（中）：光电组合物和使用光电组合物制造显示基板的方法
- 申请号：US12557215 申请日：2009-09-10
- 公开(公告)号：US20100167206A1 公开(公告)日：2010-07-01
- 发明人： Woo-Seok JEON , Sang-Hyun YUN , Hi-Kuk LEE , Deok-Man KANG , Sae-Tae OH
- 申请人： Woo-Seok JEON , Sang-Hyun YUN , Hi-Kuk LEE , Deok-Man KANG , Sae-Tae OH
- 申请人地址： KR Suwon-si JP Tokyo
- 专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.,AZ ELECTRONIC MATERIALS (JAPAN) K.K.
- 当前专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.,AZ ELECTRONIC MATERIALS (JAPAN) K.K.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-si JP Tokyo
- 优先权： KR2008-135123 20081229
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F7/004
摘要：
A photoresist composition includes a novolac resin, a benzophenone photosensitizer and an ethylidyne tris phenol photosensitizer, and an organic solvent. Thus, a micropattern having a higher resolution than the resolution of an exposure apparatus is formed to decrease an amount of exposure and/or exposure time, thereby improving manufacturing reliability and productivity.
摘要（中）：
光致抗蚀剂组合物包括酚醛清漆树脂，二苯甲酮光敏剂和乙基三苯酚光敏剂以及有机溶剂。 因此，形成具有比曝光装置的分辨率高的分辨率的微图案，以减少曝光量和/或曝光时间，从而提高制造可靠性和生产率。