发明申请
US20080074666A1 Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
有权
基本信息:
- 专利标题： Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
- 专利标题（中）：用于角分辨光谱光刻特征的方法和装置
- 申请号：US11526243 申请日：2006-09-25
- 公开(公告)号：US20080074666A1 公开(公告)日：2008-03-27
- 发明人： Arie Jeffrey Den Boef , Everhardus Cornelis Mos , Maurits Van Der Schaar
- 申请人： Arie Jeffrey Den Boef , Everhardus Cornelis Mos , Maurits Van Der Schaar
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G01B11/00
- IPC分类号： G01B11/00
摘要：
Both the 1st and 0th diffraction orders are detected in a scatterometer. The 1st diffraction orders are used to detect the overlay error. The 0th diffraction order is then used to flag if this is a false overlay error calculation of magnitude greater than the bias but smaller than the pitch of the grating.
摘要（中）：
在散射仪中都检测到第1和第0和第0衍射级。 1＆lt; ST＆gt;衍射级用于检测重叠误差。 然后，使用第0 衍射级标记，如果这是大于偏置但小于光栅间距的误差重叠误差计算。
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01B | 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 |
| ------G01B11/00 | 以采用光学方法为特征的计量设备 |