基本信息:
- 专利标题： Process for preparing photosensitive outer layer
- 专利标题（中）：光敏外层制备方法
- 申请号：US11900712 申请日：2007-09-13
- 公开(公告)号：US20080014518A1 公开(公告)日：2008-01-17
- 发明人： John Yanus , Kenny-tuan Dinh , Jin Wu , Dale Renfer
- 申请人： John Yanus , Kenny-tuan Dinh , Jin Wu , Dale Renfer
- 申请人地址： US CT Stamford
- 专利权人： XEROX CORPORATION
- 当前专利权人： XEROX CORPORATION
- 当前专利权人地址： US CT Stamford
- 主分类号： G03G15/02
- IPC分类号： G03G15/02 ; G03G5/00
摘要：
The presently disclosed embodiments are directed to an improved overcoat for an imaging member having a substrate, a charge transport layer, and an overcoat positioned on the charge transport layer, and a process for making the same including combining a resin having a reactive group selected from the group consisting of hydroxyl, carboxylic acid and amide groups, a melamine formaldehyde crosslinking agent, a formaldehyde scavenger, an acid catalyst, and an alcohol-soluble charge transporting molecule to form an overcoat solution, and subsequently providing the overcoat solution onto the charge transport layer to form an overcoat layer.
摘要（中）：
目前公开的实施例涉及用于具有衬底，电荷传输层和位于电荷输送层上的外涂层的成像构件的改进的外涂层，以及制备该成膜构件的方法，包括将具有反应性基团的树脂 由羟基，羧酸和酰胺基组成的组，三聚氰胺甲醛交联剂，甲醛清除剂，酸催化剂和醇可溶电荷输送分子，以形成外涂层溶液，随后将外涂层溶液提供到电荷输送 层以形成外涂层。
公开/授权文献:
- US08062823B2 Process for preparing photosensitive outer layer 公开/授权日：2011-11-22
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03G | 电记录术；电照相；磁记录 |
| ------G03G15/00 | 应用电荷图形的电记录工艺的设备 |
| --------G03G15/02 | .用于沉积均匀电荷的，即感光用的；电晕放电装置 |