基本信息:
- 专利标题： Lithographic apparatus and patterning device
- 专利标题（中）：平版印刷设备和图案形成装置
- 申请号：US11391682 申请日：2006-03-29
- 公开(公告)号：US20070231709A1 公开(公告)日：2007-10-04
- 发明人： Uwe Mickan , Antonius Johannes Dijsseldonk
- 申请人： Uwe Mickan , Antonius Johannes Dijsseldonk
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/42
- IPC分类号： G03B27/42 ; G03F1/00
摘要：
A mask for a lithographic apparatus is disclosed, the mask having a patterned region bearing a pattern to be transferred onto a substrate and a border surrounding the patterned region, wherein at least part of the border has a plurality of elements, the dimensions of the elements being such that, during use, they would not be resolved at the substrate. Also, a lithographic apparatus is disclosed, the apparatus having a projection system, a substrate table arranged to hold a substrate, and a patterning device having a patterned region which bears a pattern to be transferred using a radiation beam via the projection system onto the substrate, at least part of a border surrounding the patterned region comprising a plurality of elements arranged to direct radiation onto the substrate, the dimensions of the elements such that, during use, they are not resolved at the substrate.
摘要（中）：
公开了一种用于光刻设备的掩模，该掩模具有带有要转印到基底上的图案的图案化区域和围绕图案化区域的边界，其中边界的至少一部分具有多个元件，元件的尺寸 使其在使用过程中不会在底物上被解决。 此外，公开了一种光刻设备，该设备具有投影系统，布置成保持基板的基板台，以及具有图案化区域的图案形成装置，该图案化区域具有通过投影系统使用辐射束传输的图案到基板上 围绕所述图案化区域的边界的至少一部分包括被布置成将辐射引导到所述基板上的多个元件，所述元件的尺寸使得在使用期间它们在所述基板处未分辨。
公开/授权文献:
- US07713665B2 Lithographic apparatus and patterning device 公开/授权日：2010-05-11
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03B | 摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件 |
| ------G03B27/00 | 印片设备 |
| --------G03B27/02 | .接触印制用曝光设备 |
| ----------G03B27/42 | ..为同一原图自动连续复制的 |