基本信息:
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）：平版印刷设备和器件制造方法
- 申请号：US10964816 申请日：2004-10-15
- 公开(公告)号：US20050174550A1 公开(公告)日：2005-08-11
- 发明人： Bob Streefkerk , Johannes Jacobus Baselmans , Adrianus Engelen , Jozef Finders , Paul Graeupner , Johannes Catharinus Mulkens , Jan Bernard Van Schoot
- 申请人： Bob Streefkerk , Johannes Jacobus Baselmans , Adrianus Engelen , Jozef Finders , Paul Graeupner , Johannes Catharinus Mulkens , Jan Bernard Van Schoot
- 申请人地址： NL Veldhoven DE Oberkochen
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.,CARL ZEISS SMT AG
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.,CARL ZEISS SMT AG
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven DE Oberkochen
- 优先权： EP03256498.1 20031015
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F7/207 ; H01L21/027 ; G03B27/52
摘要：
In an immersion lithography apparatus or device manufacturing method, the position of focus of the projected image is changed during imaging to increase focus latitude. In an embodiment, the focus may be varied using the liquid supply system of the immersion lithographic apparatus.
摘要（中）：
在浸没光刻设备或设备制造方法中，在成像期间投影图像的焦点位置改变以增加焦点宽度。 在一个实施例中，焦点可以使用浸没式光刻设备的液体供应系统来改变。
公开/授权文献:
- US07352435B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2008-04-01