发明申请
US20050029490A1 Processing of substrates with dense fluids comprising acetylenic diols and/or alcohols
失效
基本信息:
- 专利标题： Processing of substrates with dense fluids comprising acetylenic diols and/or alcohols
- 专利标题（中）：加工包含炔属二醇和/或醇的致密流体的基材
- 申请号：US10737203 申请日：2003-12-16
- 公开(公告)号：US20050029490A1 公开(公告)日：2005-02-10
- 发明人： Hoshang Subawalla , Gene Parris , Christopher Mammarella , Bridget O'Brien , Keith Fabregas , Madhukar Rao , Christine Kretz
- 申请人： Hoshang Subawalla , Gene Parris , Christopher Mammarella , Bridget O'Brien , Keith Fabregas , Madhukar Rao , Christine Kretz
- 主分类号： C11D1/72
- IPC分类号： C11D1/72 ; C11D3/16 ; C11D3/20 ; C09K5/00
摘要：
A dense cleaning fluid for removing contaminants from a substrate and a method comprising same is disclosed herein. In one embodiment of the present invention, the dense cleaning fluid comprises a dense fluid and at least one acetylenic diol or acetylenic alcohol surfactant.
摘要（中）：
用于从基底去除污染物的致密清洁流体及其包含方法在此公开。 在本发明的一个实施方案中，致密清洁流体包含致密流体和至少一种炔属二醇或炔属醇表面活性剂。
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D1/00 | 主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂 |
| --------C11D1/02 | .阴离子化合物 |
| ----------C11D1/72 | ..聚氧亚烷基乙二醇的醚 |