发明申请
US20020157609A1 Vacuum arc vapor deposition apparatus and vacuum arc vapor deposition method
失效
基本信息:
- 专利标题： Vacuum arc vapor deposition apparatus and vacuum arc vapor deposition method
- 专利标题（中）：真空电弧蒸镀装置及真空电弧蒸镀法
- 申请号：US10107363 申请日：2002-03-28
- 公开(公告)号：US20020157609A1 公开(公告)日：2002-10-31
- 发明人： Koji Miyake
- 申请人： NISSIN ELECTRIC CO.
- 申请人地址： null
- 专利权人： NISSIN ELECTRIC CO.
- 当前专利权人： NISSIN ELECTRIC CO.
- 当前专利权人地址： null
- 优先权： JPP.2001-95815 20010329
- 主分类号： C23C016/00
- IPC分类号： C23C016/00
摘要：
A vacuum arc vapor deposition apparatus includes a plurality of magnetic coils for guiding a plasma produced by a vacuum arc evaporating source to the vicinity of a substrate in a film forming chamber by use of a deflection magnetic field. The vacuum arc vapor deposition apparatus further includes a coil power source for reversing a coil current to be fed to the magnetic coils, and a control unit for controlling the coil power source to reverse the flowing direction of the coil current.
摘要（中）：
真空电弧气相沉积装置包括多个用于通过使用偏转磁场将由真空电弧蒸发源产生的等离子体引导到成膜室中的基板附近的磁性线圈。 真空电弧蒸镀装置还包括用于反转要馈送到磁性线圈的线圈电流的线圈电源，以及用于控制线圈电源以反转线圈电流的流动方向的控制单元。