基本信息:
- 专利标题： Method of manufacturing a thin film magnetic head
- 专利标题（中）：制造薄膜磁头的方法
- 申请号：US09974815 申请日：2001-10-12
- 公开(公告)号：US20020053130A1 公开(公告)日：2002-05-09
- 发明人： Yoshitaka Sasaki
- 申请人： TDK CORPORATION
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： TDK CORPORATION
- 当前专利权人： TDK CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2000-313416 20001013
- 主分类号： G11B005/127
- IPC分类号： G11B005/127
摘要：
A method of manufacturing a thin film magnetic head capable of improving a yield while making a pole width extremely minute with high precision is provided. A write gap layer and a bottom pole are selectively etched in a region other than a portion corresponding to a front end part through the RIE with the front end part having an extremely minute uniform width as a mask in an atmosphere of gas including at least chlorine out of chlorine and boron trichloride and at an ambient temperature within a range of 300null C. to 300null C. The width (pole width) of a pole portion can be made uniform with high precision along a length direction so that the yield of the thin film magnetic head can be improved.
摘要（中）：
提供了一种制造能够以高精度使极宽度极微细化的同时提高成品率的薄膜磁头的方法。 在除了通过RIE的前端部对应的部分以外的区域中，在包含至少氯的气体的气氛中，前端部具有非常微小的均匀宽度作为掩模，有选择地刻蚀写间隙层和底极 在三氯化碳和三氯化硼中，并且在300℃至300℃的范围内的环境温度下进行。极部的宽度（极宽度）可以沿着长度方向以高精度均匀，从而使得 可以改善薄膜磁头。
公开/授权文献:
- US06854175B2 Method of manufacturing a thin film magnetic head 公开/授权日：2005-02-15