基本信息:
- 专利标题： 用以滿足具有改良之流動不均勻性／氣體傳導性之可變處理容積的對稱腔室本體設計架構
- 专利标题（英）：SYMMETRIC CHAMBER BODY DESIGN ARCHITECTURE TO ADDRESS VARIABLE PROCESS VOLUME WITH IMPROVED FLOW UNIFORMITY/GAS CONDUCTANCE
- 专利标题（中）：用以满足具有改良之流动不均匀性／气体传导性之可变处理容积的对称腔室本体设计架构
- 申请号：TW104109397 申请日：2015-03-24
- 公开(公告)号：TWI675132B 公开(公告)日：2019-10-21
- 发明人： 恩蓋葉安德魯 , NGUYEN, ANDREW , 邱湯姆K , CHO, TOM K. , 比許瓦那尤甘南達薩羅德 , VISHWANATH, YOGANANDA SARODE
- 申请人： 美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人： 蔡坤財; 李世章
- 优先权： 61/977,222 20140409
- 主分类号： C30B25/14
- IPC分类号： C30B25/14 ; C23C16/455 ; H01L21/205 ; H01L21/3065
公开/授权文献:
- TW201544637A 用以滿足具有改良之流動不均勻性／氣體傳導性之可變處理容積的對稱腔室本體設計架構 公开/授权日：2015-12-01