基本信息:
- 专利标题: 利用佈植的可流動膜性質調諧
- 专利标题(英):Flowable film properties tuning using implantation
- 专利标题(中):利用布植的可流动膜性质调谐
- 申请号:TW104130151 申请日:2015-09-11
- 公开(公告)号:TWI669780B 公开(公告)日:2019-08-21
- 发明人: 葉怡利 , YIEH, ELLIE Y. , 葛迪魯多維 , GODET, LUDOVIC , 薛君 , XUE, JUN , 奈馬尼史林尼法斯D , NEMANI, SRINIVAS D. , 李東擎 , LI, DONGQING , 陳艾莉卡 , CHEN, ERICA
- 申请人: 美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人: 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人: 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人: 李世章; 彭國洋
- 优先权: 14/485,505 20140912
- 主分类号: H01L21/762
- IPC分类号: H01L21/762
公开/授权文献:
- TW201616603A 利用佈植的可流動膜性質調諧 公开/授权日:2016-05-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |
----------H01L21/71 | ..限定在组H01L21/70中的器件的特殊部件的制造 |
------------H01L21/76 | ...组件间隔离区的制作 |
--------------H01L21/762 | ....介电区 |