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专利标题：
在先進圖案化製程中用於間隔物沉積與選擇性移除的設備與方法
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- 专利标题（英）：APPARATUS AND METHODS FOR SPACER DEPOSITION AND SELECTIVE REMOVAL IN AN ADVANCED PATTERNING PROCESS
- 专利标题（中）：在雪铁龙图案化制程中用于间隔物沉积与选择性移除的设备与方法
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申请号：TW105116333
申请日：2016-05-25
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公开(公告)号：TWI627724B
公开(公告)日：2018-06-21
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发明人：
周杰
, ZHOU, JIE
, 殷正操
, YING, CHENTSAU
, 羅伊珊胡N
, ROY, SHAMBHU N.
, 奈馬尼史林尼法斯D
, NEMANI, SRINIVAS D.
, 劉菁菁
, LIU, JINGJING
, 葉怡利
, YIEH, ELLIE Y.
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申请人：
應用材料股份有限公司
,
APPLIED MATERIALS, INC.
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专利权人：
應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
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当前专利权人：
應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
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代理人：
李世章; 彭國洋
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优先权：
14/729,932 20150603
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主分类号：
H01L23/535
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IPC分类号：
H01L23/535
; H01L21/20
; H01L21/306
