基本信息:

• 专利标题： 研磨墊及研磨裝置
• 专利标题（英）：POLISHING PAD AND POLISHING APPARATUS
• 专利标题（中）：研磨垫及研磨设备
• 申请号：TW106100388 申请日：2017-01-06
• 公开(公告)号：TWI621501B 公开(公告)日：2018-04-21
• 发明人： 馮崇智 , FENG, CHUNG-CHIH , 姚伊蓬 , YAO, I-PENG , 王良光 , WANG, LYANG-GUNG , 劉瑋得 , LIU, WEI-TE , 吳文傑 , WU, WEN-CHIEH , 洪永璋 , HUNG, YUNG-CHANG
• 申请人： 三芳化學工業股份有限公司 ,  SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
• 申请人地址： 高雄市
• 专利权人： 三芳化學工業股份有限公司,SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
• 当前专利权人： 三芳化學工業股份有限公司,SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
• 当前专利权人地址： 高雄市
• 代理人： 蔡東賢
• 主分类号： B24B37/26
• IPC分类号： B24B37/26 ; B24B37/22 ; H01L21/304

公开/授权文献:

• TW201825234A  研磨墊及研磨裝置 公开/授权日：2018-07-16

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