基本信息:
- 专利标题: 用於整合非揮發性電荷捕獲記憶體元件和邏輯CMOS元件的方法
- 专利标题(英):Method for integration of non-volatile charge trap memory devices and logic cmos devices
- 专利标题(中):用于集成非挥发性电荷捕获内存组件和逻辑CMOS组件的方法
- 申请号:TW102110015 申请日:2013-03-21
- 公开(公告)号:TWI582854B 公开(公告)日:2017-05-11
- 发明人: 庫馬爾 克里希納斯瓦米 , RAMKUMAR, KRISHNASWAMY , 珍 佛瑞德 , JENNE, FRED , 利維 賽格 , LEVY, SAGY
- 申请人: 賽普拉斯半導體公司 , CYPRESS SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 专利权人: 賽普拉斯半導體公司,CYPRESS SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 当前专利权人: 賽普拉斯半導體公司,CYPRESS SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 代理人: 閻啟泰; 林景郁
- 优先权: 13/436,878 20120331
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L21/28
公开/授权文献:
- TW201347048A 非揮發性電荷捕獲記憶體元件和邏輯CMOS元件的整合 公开/授权日:2013-11-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料 |
--------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
----------------H01L21/335 | .....场效应晶体管 |
------------------H01L21/336 | ......带有绝缘栅的 |