基本信息:
- 专利标题： 液體回收系統、液浸曝光裝置、液浸曝光方法、以及元件製造方法
- 专利标题（中）：液体回收系统、液浸曝光设备、液浸曝光方法、以及组件制造方法
- 申请号：TW103112794 申请日：2008-03-21
- 公开(公告)号：TWI569105B 公开(公告)日：2017-02-01
- 发明人： 西井康文 , NISHII, YASUFUMI , 長坂博之 , NAGASAKA, HIROYUKI , 奧山猛 , OKUYAMA, TAKESHI
- 申请人： 尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
- 专利权人： 尼康股份有限公司,NIKON CORPORATION
- 当前专利权人： 尼康股份有限公司,NIKON CORPORATION
- 代理人： 桂齊恆; 閻啟泰
- 优先权： 60/907,186 20070323;12/076,331 20080317
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
公开/授权文献:
- TW201430506A 液體回收系統、液浸曝光裝置、液浸曝光方法、以及元件製造方法 公开/授权日：2014-08-01