基本信息:
- 专利标题： ＥＵＶ微影系統
- 专利标题（英）：Euv lithography system
- 专利标题（中）：ＥＵＶ微影系统
- 申请号：TW100145488 申请日：2011-12-09
- 公开(公告)号：TWI551952B 公开(公告)日：2016-10-01
- 发明人： 古瑞維契 尹戈爾 , GUREVICH, IGOR , 丁傑 烏杜 , DINGER, UDO , 赫夫 馬可斯 , HAUF, MARKUS , 維舒邁爾 拉爾斯 , WISCHMEIER, LARS , 凱爾納 史帝芬 , KELLNER, STEPHAN , 帝俊瑟 馬可斯 , DEGUENTHER, MARKUS
- 申请人： 卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
- 专利权人： 卡爾蔡司SMT有限公司,CARL ZEISS SMT GMBH
- 当前专利权人： 卡爾蔡司SMT有限公司,CARL ZEISS SMT GMBH
- 代理人： 李宗德
- 优先权： 10 2010 062 720.8 20101209
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
公开/授权文献:
- TW201241574A ＥＵＶ微影系統 EUV LITHOGRAPHY SYSTEM 公开/授权日：2012-10-16