基本信息:
- 专利标题: 半導體裝置,製造半導體裝置的方法,以及電子裝置
- 专利标题(英):Semiconductor apparatus, method of manufacturing semiconductor apparatus, and electronic apparatus
- 专利标题(中):半导体设备,制造半导体设备的方法,以及电子设备
- 申请号:TW101128440 申请日:2012-08-07
- 公开(公告)号:TWI523175B 公开(公告)日:2016-02-21
- 发明人: 脅山悟 , WAKIYAMA, SATORU , 尾崎裕司 , OZAKI, HIROSHI
- 申请人: 新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
- 专利权人: 新力股份有限公司,SONY CORPORATION
- 当前专利权人: 新力股份有限公司,SONY CORPORATION
- 代理人: 林志剛
- 优先权: 2011-178390 20110817
- 主分类号: H01L23/488
- IPC分类号: H01L23/488 ; H01L21/60
公开/授权文献:
- TW201320270A 半導體裝置,製造半導體裝置的方法,以及電子裝置 公开/授权日:2013-05-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L23/00 | 半导体或其他固态器件的零部件 |
--------H01L23/34 | .冷却装置;加热装置;通风装置或温度补偿装置 |
----------H01L23/488 | ..由焊接或黏结结构组成 |