基本信息:
- 专利标题： 氣體阻隔層積體、其製造方法、電子裝置用構件以及電子裝置
- 专利标题（中）：气体阻隔层积体、其制造方法、电子设备用构件以及电子设备
- 申请号：TW101105036 申请日：2012-02-16
- 公开(公告)号：TWI513845B 公开(公告)日：2015-12-21
- 发明人： 永繩智史 , NAGANAWA, SATOSHI
- 申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
- 专利权人： 琳得科股份有限公司,LINTEC CORPORATION
- 当前专利权人： 琳得科股份有限公司,LINTEC CORPORATION
- 代理人： 洪澄文
- 优先权： 2011-075156 20110330
- 主分类号： C23C16/30
- IPC分类号： C23C16/30 ; C23C16/513
公开/授权文献:
- TW201247923A 氣體阻隔層積體、其製造方法、電子裝置用構件以及電子裝置 公开/授权日：2012-12-01