基本信息:
- 专利标题： 硬遮罩組成物用單體、包含該單體之硬遮罩組成物及使用該硬遮罩組成物形成圖案的方法
- 专利标题（英）：Monomer for hardmask composition and hardmask composition including the monomer and method of forming patterns using the hardmask composition
- 专利标题（中）：硬遮罩组成物用单体、包含该单体之硬遮罩组成物及使用该硬遮罩组成物形成图案的方法
- 申请号：TW102125537 申请日：2013-07-17
- 公开(公告)号：TWI509364B 公开(公告)日：2015-11-21
- 发明人： 金潤俊 , KIM, YUN JUN , 權孝英 , KWON, HYO YOUNG , 金惠廷 , KIM, HEA JUNG , 李忠憲 , LEE, CHUNG HEON , 趙娟振 , CHO, YOUN JIN , 崔有廷 , CHOI, YOO JEONG
- 申请人： 第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
- 专利权人： 第一毛織股份有限公司,CHEIL INDUSTRIES INC.
- 当前专利权人： 第一毛織股份有限公司,CHEIL INDUSTRIES INC.
- 代理人： 惲軼群; 陳文郎
- 优先权： 10-2012-0153750 20121226;10-2012-0153751 20121226;10-2012-0153752 20121226;10-2013-0017054 20130218
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; C07C39/19 ; H01L21/027
公开/授权文献:
- TW201426198A 硬遮罩組成物用單體、包含該單體之硬遮罩組成物及使用該硬遮罩組成物形成圖案的方法 公开/授权日：2014-07-01