基本信息:
- 专利标题： 真空處理裝置
- 专利标题（中）：真空处理设备
- 申请号：TW098126747 申请日：2009-08-10
- 公开(公告)号：TWI459493B 公开(公告)日：2014-11-01
- 发明人： 佐藤雄志 , SATO, YUSHI , 三木利夫 , MIKI, TOSHIO , 村口洋介 , MURAGUCHI, YOSUKE , 安田克己 , YASUDA, KATSUMI , 北地一成 , KITAJI, KAZUNARI , 村岸恭次 , MURAGISHI, YASUSHI , 前田豊 , MAEDA, YUTAKA
- 申请人： 翔風技術有限公司 , SINFONIA TECHNOLOGY CO., LTD.
- 专利权人： 翔風技術有限公司,SINFONIA TECHNOLOGY CO., LTD.
- 当前专利权人： 翔風技術有限公司,SINFONIA TECHNOLOGY CO., LTD.
- 代理人： 莊志強; 王雲平
- 优先权： 2008-204826 20080807
- 主分类号： H01L21/677
- IPC分类号： H01L21/677
公开/授权文献:
- TW201007877A 真空處理裝置 公开/授权日：2010-02-16