基本信息:
- 专利标题: 相位差膜及其製造方法
- 专利标题(英):Phase-difference film and method for forming same
- 专利标题(中):相位差膜及其制造方法
- 申请号:TW099103907 申请日:2010-02-09
- 公开(公告)号:TWI454533B 公开(公告)日:2014-10-01
- 发明人: 佐藤惠 , SATOH, MEGUMI , 磯崎正義 , ISOZAKI, MASAYOSHI , 林敬一 , HAYASHI, KEIICHI , 安藤秀樹 , ANDOH, HIDEKI
- 申请人: 新日鐵住金化學股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
- 专利权人: 新日鐵住金化學股份有限公司,NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人: 新日鐵住金化學股份有限公司,NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD.
- 代理人: 洪武雄; 陳昭誠
- 优先权: 2009-052699 20090305
- 主分类号: C08L83/07
- IPC分类号: C08L83/07 ; C08L83/10 ; G02B1/04
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C08 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物 |
----C08L | 高分子化合物的组合物 |
------C08L83/00 | 由只在主链中形成含硅的,有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物;此种聚合物的衍生物的组合物 |
--------C08L83/04 | .聚硅氧烷 |
----------C08L83/07 | ..含连接到不饱和脂族基团的硅的 |