基本信息:
- 专利标题： 微影裝置、可程式化圖案化器件及微影方法
- 专利标题（英）：Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method
- 专利标题（中）：微影设备、可进程化图案化器件及微影方法
- 申请号：TW098131847 申请日：2009-09-21
- 公开(公告)号：TWI427431B 公开(公告)日：2014-02-21
- 发明人： 戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 斑尼 維頂 維根維齊 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 , BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS , 桂 成群 , GUI, CHENG-QUN , 昂夫里 喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 范 茲維 愛爾恩 約翰 , VAN ZWET, ERWIN JOHN
- 申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
- 专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 61/099,100 20080922;61/193,389 20081124;61/166,641 20090403
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03B27/72