基本信息:
- 专利标题： 微影裝置及器件製造方法
- 专利标题（英）：Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）：微影设备及器件制造方法
- 申请号：TW097129393 申请日：2008-08-01
- 公开(公告)号：TWI394011B 公开(公告)日：2013-04-21
- 发明人： 麥塞爾 麥卡爾斯 , BECKERS, MARCEL , 馬卡斯 安德納斯 范 戴 克豪夫 , VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS , 席貝 連席爾 , LANDHEER, SIEBE , 歐特拉 喬漢斯 彼德斯 瑪利亞 瑪斯 , MAAS, WOUTERUS JOHANNES PETRUS MARIA , 捷倫 彼得 喬翰納 班傑史丁 , BRUIJSTENS, JEROEN PETER JOHANNES , 艾佛 亞當 喬翰納 湯瑪士 , THOMAS, IVO ADAM JOHANNES , 法蘭西瑟斯 喬漢那斯 約瑟夫 簡森 , JANSSEN, FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH , 貝頌默思 瑪西斯 凡 歐瑞 , VAN OERLE, BARTHOLOMEUS MATHIAS
- 申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
- 专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 60/935,247 20070802;60/996,785 20071205
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027