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专利标题：
複向氣體分配系統、複向氣體分配淋浴頭裝置、半導體製造複向氣體分配系統
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- 专利标题（英）：Plural gas distribution system, plural gas distribution showerhead apparatus, and semiconductor manufacturing plural gas distribution system
- 专利标题（中）：复向气体分配系统、复向气体分配淋浴头设备、半导体制造复向气体分配系统
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申请号：TW098107256
申请日：2009-03-06
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公开(公告)号：TWI391599B
公开(公告)日：2013-04-01
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发明人：
余振華
, YU, CHEN HUA
, 黃見翎
, HWANG, CHIEN LING
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申请人：
台灣積體電路製造股份有限公司
,
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
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申请人地址：
新竹市
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专利权人：
台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
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当前专利权人：
台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
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当前专利权人地址：
新竹市
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代理人：
洪澄文; 顏錦順
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优先权：
12/179,231 20080724
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主分类号：
F17D1/04
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IPC分类号：
F17D1/04
; H01L21/67
