基本信息:
- 专利标题： 光阻組成物、光阻圖型之形成方法、化合物及酸產生劑
- 专利标题（英）：Resist composition, method of forming resist pattern, compound and acid generator
- 专利标题（中）：光阻组成物、光阻图型之形成方法、化合物及酸产生剂
- 申请号：TW097121845 申请日：2008-06-11
- 公开(公告)号：TWI383252B 公开(公告)日：2013-01-21
- 发明人： 岩井武 , IWAI, TAKESHI , 羽田英夫 , HADA, HIDEO , 石塚啓太 , ISHIDUKA, KEITA , 川上晃也 , KAWAUE, AKIYA , 清水宏明 , SHIMIZU, HIROAKI , 大下京子 , OHSHITA, KYOKO , 中村剛 , NAKAMURA, TSUYOSHI , 平原孔明 , HIRAHARA, KOMEI , 鈴木優一 , SUZUKI, YUICHI , 瀨下武廣 , SESHIMO, TAKEHIRO
- 申请人： 東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 专利权人： 東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人： 東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2007-156556 20070613;2007-294429 20071113
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C381/12