基本信息:
- 专利标题： 二氧化矽系被膜形成用組成物 COMPOSITION FOR FORMING SILICA BASED FILM
- 专利标题（英）：Composition for forming silica based film
- 专利标题（中）：二氧化硅系被膜形成用组成物 COMPOSITION FOR FORMING SILICA BASED FILM
- 申请号：TW095109666 申请日：2006-03-21
- 公开(公告)号：TWI328024B 公开(公告)日：2010-08-01
- 发明人： 飯田啟之 , 高濱昌
- 申请人： 東京應化工業股份有限公司
- 申请人地址： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 日本 JP
- 专利权人： 東京應化工業股份有限公司
- 当前专利权人： 東京應化工業股份有限公司
- 当前专利权人地址： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 日本 JP
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 日本 2005-116281 20050413 日本 2005-116282 20050413
- 主分类号： C08L
- IPC分类号： C08L ; H01L
A composition for forming a silica-based coating film includes a siloxane polymer and an alkali metal compound. The siloxane polymer is preferably a hydrolysis-condensation product of a silane compound having a hydrolyzable group. Sodium, lithium, potassium, rubidium, or cesium, or the like is used as the alkali metal of the alkali metal compound. Furthermore, the alkali metal compound is preferably a nitrate, sulfate, carbonate, oxide, chloride, bromide, fluoride, iodide, or hydroxide of the above alkali metal. This composition for forming a silica-based coating film may also include a pore-forming material. At least one material selected from amongst polyalkylene glycols and alkyl-terminated derivatives thereof is used as the pore-forming material.
公开/授权文献:
- TW200706598A 二氧化矽系被膜形成用組成物 COMPOSITION FOR FORMING SILICA BASED FILM 公开/授权日：2007-02-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08L | 高分子化合物的组合物 |