基本信息:
- 专利标题： 微影設備及裝置製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题（英）：Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）：微影设备及设备制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 申请号：TW095121438 申请日：2006-06-15
- 公开(公告)号：TWI327686B 公开(公告)日：2010-07-21
- 发明人： 馬丁諾司 亨德瑞克 亨德瑞克 霍克斯 , 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 提那曼斯
- 申请人： ASML荷蘭公司
- 申请人地址： ASML NETHERLANDS B. V. 荷蘭 NL
- 专利权人： ASML荷蘭公司
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司
- 当前专利权人地址： ASML NETHERLANDS B. V. 荷蘭 NL
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 美國 11/167,918 20050628
- 主分类号： G03F
- IPC分类号： G03F ; G02F
摘要：
本發明揭示一種具有一資料路徑的微影設備，用於將一所需劑量圖案的表示轉變成一適用於控制一個別可控制元件之陣列的控制資料序列，其中該資料路徑包括複數個資料調處裝置及一計算負載控制器，用於平衡在該等資料調處裝置之間的一計算負載。本發明亦揭示一種使用該微影設備的元件之裝置製造方法，及一種使用該方法製造的平板顯示器及積體電路裝置。
摘要（中）：
本发明揭示一种具有一数据路径的微影设备，用于将一所需剂量图案的表示转变成一适用于控制一个别可控件之数组的控制数据串行，其中该数据路径包括复数个数据调处设备及一计算负载控制器，用于平衡在该等数据调处设备之间的一计算负载。本发明亦揭示一种使用该微影设备的组件之设备制造方法，及一种使用该方法制造的平板显示器及集成电路设备。