发明专利
TWI285299B 微影製造方法,微影投射裝置及所製造之器件 LITHOGRAPHIC MANUFACTURING PROCESS, LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
失效
基本信息:
- 专利标题： 微影製造方法,微影投射裝置及所製造之器件 LITHOGRAPHIC MANUFACTURING PROCESS, LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
- 专利标题（英）：Lithographic manufacturing process, lithographic projection apparatus, and device manufactured thereby
- 专利标题（中）：微影制造方法,微影投射设备及所制造之器件 LITHOGRAPHIC MANUFACTURING PROCESS, LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
- 申请号：TW091106167 申请日：2002-03-28
- 公开(公告)号：TWI285299B 公开(公告)日：2007-08-11
- 发明人： 喬瑟夫 馬利亞 范德斯 JOZEF MARIA FINDERS
- 申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.
- 申请人地址： 荷蘭
- 专利权人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： 荷蘭
- 代理人： 陳長文
- 优先权： EPC 02251207.3 20020222
- 主分类号： G03F
- IPC分类号： G03F
摘要：
本發明揭示一種微影製造方法，其中會取得第一微影投射裝置之第一微影轉換函數中的第一資訊。該資訊係與第二微影投射裝置之第二微影轉換函數中的第二資訊作比較作為參考。會計算該第一及第二資訊之間的差異。接著會計算為將該差異減到最小程度該第一微影投射裝置之機器設定所需要作的改變並且應用在該第一微影投射裝置中，因此任何與間距有關的特徵誤差之第一及第二微影裝置之間的匹配便可獲得改善。
摘要（中）：
本发明揭示一种微影制造方法，其中会取得第一微影投射设备之第一微影转换函数中的第一信息。该信息系与第二微影投射设备之第二微影转换函数中的第二信息作比较作为参考。会计算该第一及第二信息之间的差异。接着会计算为将该差异减到最小程度该第一微影投射设备之机器设置所需要作的改变并且应用在该第一微影投射设备中，因此任何与间距有关的特征误差之第一及第二微影设备之间的匹配便可获得改善。
摘要（英）：
A lithographic manufacturing process is disclosed in which a first information on a first lithographic transfer function of a first lithographic projection apparatus is obtained. The information is compared with a second information on a second lithographic transfer function of a second lithographic projection apparatus, for reference. The difference between the first and second information is calculated. Then the change of machine settings for the first lithographic projection apparatus, needed to minimize the difference, is calculated and applied to the first lithographic projection apparatus, such that the match between the first and second lithographic projection apparatus of any pitch-dependency of feature errors is improved.