发明专利
TWI279421B 安定組成物、安定聚二氧化矽樹脂之方法及製造電子裝置之方法 A STABLE COMPOSITION, METHOD FOR STABILIZING A POLYSILICA RESIN, AND METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTRONIC DEVICE
有权
基本信息:
- 专利标题： 安定組成物、安定聚二氧化矽樹脂之方法及製造電子裝置之方法 A STABLE COMPOSITION, METHOD FOR STABILIZING A POLYSILICA RESIN, AND METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTRONIC DEVICE
- 专利标题（英）：A stable composition, method for stabilizing a polysilica resin, and method for manufacturing an electronic device
- 专利标题（中）：安定组成物、安定聚二氧化硅树脂之方法及制造电子设备之方法 A STABLE COMPOSITION, METHOD FOR STABILIZING A POLYSILICA RESIN, AND METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTRONIC DEVICE
- 申请号：TW091133795 申请日：2002-11-20
- 公开(公告)号：TWI279421B 公开(公告)日：2007-04-21
- 发明人： 游宇建 YUJIAN YOU , 勞勃H. 哥利 ROBERT H. GORE , 麥可K. 卡利弗 MICHAEL K. GALLAGHER
- 申请人： 希普列公司 SHIPLEY COMPANY, L.L.C.
- 申请人地址： 美國
- 专利权人： 希普列公司 SHIPLEY COMPANY, L.L.C.
- 当前专利权人： 希普列公司 SHIPLEY COMPANY, L.L.C.
- 当前专利权人地址： 美國
- 代理人： 洪武雄; 陳昭誠
- 优先权： 美國 60/331,911 20011120 美國 10/194,851 20020712
- 主分类号： C08L
- IPC分类号： C08L ; C08K ; C09D ; C08J
摘要：
本發明揭示一種含有B-階段有機聚二氧化矽樹脂及有機酸之安定的有機聚二氧化矽樹脂組成物、安定此等B-階段有機聚二氧化矽樹脂組成物之方法以及利用此等安定的組成物製備電子裝置之方法。
摘要（中）：
本发明揭示一种含有B-阶段有机聚二氧化硅树脂及有机酸之安定的有机聚二氧化硅树脂组成物、安定此等B-阶段有机聚二氧化硅树脂组成物之方法以及利用此等安定的组成物制备电子设备之方法。
摘要（英）：
Disclosed are stable organo polysilica resin composition containing a B-staged organo polysilica resin and an organic acid, methods of stabilizing such B-staged organo polysilica resin compositions and methods of manufacturing electronic devices using such stable compositions.
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08L | 高分子化合物的组合物 |