基本信息:
- 专利标题： 具有磷醯膽鹼基之聚矽氧烷及其製造方法
- 专利标题（英）：Polysiloxane having phosphorylcholine group and method for producing the same
- 专利标题（中）：具有磷酰胆碱基之聚硅氧烷及其制造方法
- 申请号：TW092132517 申请日：2003-11-20
- 公开(公告)号：TWI278474B 公开(公告)日：2007-04-11
- 发明人： 宮澤和之 , 岡隆史 TAKASHI ODA
- 申请人： 資生堂股份有限公司 SHISEIDO COMPANY, LTD.
- 申请人地址： 日本
- 专利权人： 資生堂股份有限公司 SHISEIDO COMPANY, LTD.
- 当前专利权人： 資生堂股份有限公司 SHISEIDO COMPANY, LTD.
- 当前专利权人地址： 日本
- 代理人： 林鎰珠
- 优先权： 日本 2002-340319 20021125
- 主分类号： C08G
- IPC分类号： C08G
摘要：
提供以下式(1)代表之具有磷醯膽鹼基之聚矽氧烷。為獲得適用於活體相容性材料、化粧料原料之利用範圍廣泛的聚矽氧烷，開發出以簡便且高度汎用性製成具有磷醯膽鹼基聚矽氧烷之方法，並提供具有磷醯膽鹼基之聚矽氧烷。
摘要（中）：
提供以下式(1)代表之具有磷酰胆碱基之聚硅氧烷。为获得适用于活体兼容性材料、化妆料原料之利用范围广泛的聚硅氧烷，开发出以简便且高度泛用性制成具有磷酰胆碱基聚硅氧烷之方法，并提供具有磷酰胆碱基之聚硅氧烷。
摘要（英）：
This invention provides a polysiloxane having a phosphorylcholine group represented by the following formula (1). In order to obtain a polysiloxane widely applicable in biocompatible materials and cosmetic materials, it is intended to develop a process whereby a polysiloxane having a phosphorylcholine group can be easily and highly commonly obtained to thereby provide a polysiloxane having a phosphorylcholine group.
公开/授权文献:
- TW200417560A 具有磷醯膽鹼基之聚矽氧烷及其製造方法 公开/授权日：2004-09-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |