基本信息:
- 专利标题： 阻劑組成物及阻劑圖型形成方法
- 专利标题（英）：RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
- 专利标题（中）：阻剂组成物及阻剂图型形成方法
- 申请号：TW108137431 申请日：2019-10-17
- 公开(公告)号：TW202030550A 公开(公告)日：2020-08-16
- 发明人： 矢萩真人 , YAHAGI, MASAHITO , 堀洋一 , HORI, YOICHI , 藤井達也 , FUJII, TATSUYA , 福村友貴 , FUKUMURA, YUKI
- 申请人： 日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 专利权人： 日商東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人： 日商東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2018-207774 20181102
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; H01L21/027
摘要：
本發明為一種阻劑組成物，其為含有：具有於通式(a0-1)之化合物中，W1部位的聚合性基變換成主鏈的結構單位之高分子化合物，與通式(b1-1)之化合物。式(a0-1)中，W1為含有聚合性基之基。Ct為三級碳原子，Ct之α位，為構成碳-碳不飽和鍵結的碳原子；R11為芳香族烴基或鏈狀烴基。R12與R13可相互鍵結，而形成5員環的脂肪族單環式基，或具有5員環的脂肪族單環之縮合多環式烴基；式(b1-1)中，Rb11為環式基。Rb10、Rb20及Rb30表示取代基。nb1為0~4，nb2及nb3為0~5之整數；X-為對陰離子。
摘要（中）：
本发明为一种阻剂组成物，其为含有：具有于通式(a0-1)之化合物中，W1部位的聚合性基变换成主链的结构单位之高分子化合物，与通式(b1-1)之化合物。式(a0-1)中，W1为含有聚合性基之基。Ct为三级碳原子，Ct之α位，为构成碳-碳不饱和键结的碳原子；R11为芳香族烃基或链状烃基。R12与R13可相互键结，而形成5员环的脂肪族单环式基，或具有5员环的脂肪族单环之缩合多环式烃基；式(b1-1)中，Rb11为环式基。Rb10、Rb20及Rb30表示取代基。nb1为0~4，nb2及nb3为0~5之整数；X-为对阴离子。