基本信息:
- 专利标题： 判定圖案化製程之校正之方法、元件製造方法、用於微影裝置之控制系統及微影裝置
- 专利标题（英）：METHODS OF DETERMINING CORRECTIONS FOR A PATTERNING PROCESS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, CONTROL SYSTEM FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
- 专利标题（中）：判定图案化制程之校正之方法、组件制造方法、用于微影设备之控制系统及微影设备
- 申请号：TW109104361 申请日：2017-10-17
- 公开(公告)号：TW202022860A 公开(公告)日：2020-06-16
- 发明人： 寇偉田 , KOU, WEITIAN , 伊瑪 亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 霍特曼 馬克 , HAUPTMANN, MARC , 庫柏斯 米切爾 , KUPERS, MICHIEL , 維蓋茲-輝澤 莉迪亞 瑪麗安娜 , VERGAIJ-HUIZER, LYDIA MARIANNA , 瓦勒伯斯 艾瑞克 裘漢斯 瑪麗亞 , WALLERBOS, ERIK JOHANNES MARIA , 德爾維尼 艾瑞克 亨利 亞德里安 , DELVIGNE, ERIK HENRI ADRIAAN , 羅伊羅夫斯 威廉 賽納 克里斯汀 , ROELOFS, WILLEM SEINE CHRISTIAN , 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 凡 德 山登 史帝芬 柯尼里斯 李歐朵魯斯 , VAN DER SANDEN, STEFAN CORNELIS THEODORUS , 高斯達 席德瑞克 迪賽爾 , GROUWSTRA, CEDRIC DESIRE , 戴克司 大衛 法蘭斯 賽門 , DECKERS, DAVID FRANS SIMON , 吉歐羅 曼紐爾 , GIOLLO, MANUEL , 道芙布希 伊莉娜 , DOVBUSH, IRYNA
- 申请人： 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
- 专利权人： 荷蘭商ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： 荷蘭商ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B.V.
- 代理人： 林嘉興
- 优先权： EP16195047 20161021;EP17150658 20170109;EP17154129 20170201;EP17187411 20170823
- 主分类号： G11C7/06
- IPC分类号： G11C7/06 ; H01L21/8244
摘要：
本發明揭示一種判定與一基板上之一微影製程有關的一製程參數之一校正的方法及相關聯裝置。該微影製程包含複數個輪次，在該複數個輪次中之每一者期間，將一圖案施加至一或多個基板。該方法包含獲得描述該基板之一屬性的曝光前度量衡資料；獲得包含已對一或多個先前曝光基板執行的對該製程參數之一或多個量測的曝光後度量衡資料；基於該曝光前度量衡資料，將來自一或多個群組之一群組隸屬狀態指派給該基板；及基於該群組隸屬狀態及該曝光後度量衡資料，判定該製程參數之該校正。
摘要（中）：
本发明揭示一种判定与一基板上之一微影制程有关的一制程参数之一校正的方法及相关联设备。该微影制程包含复数个轮次，在该复数个轮次中之每一者期间，将一图案施加至一或多个基板。该方法包含获得描述该基板之一属性的曝光前度量衡数据；获得包含已对一或多个先前曝光基板运行的对该制程参数之一或多个量测的曝光后度量衡数据；基于该曝光前度量衡数据，将来自一或多个群组之一群组隶属状态指派给该基板；及基于该群组隶属状态及该曝光后度量衡数据，判定该制程参数之该校正。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G11 | 信息存储 |
| ----G11C | 静态存储器 |
| ------G11C7/00 | 数字存储器信息的写入或读出装置 |
| --------G11C7/06 | .读出放大器；相关的电路 |