基本信息:
- 专利标题： 兩性離子光可破壞淬滅劑
- 专利标题（英）：ZWITTERIONIC PHOTO-DESTROYABLE QUENCHERS
- 专利标题（中）：两性离子光可破坏淬灭剂
- 申请号：TW108136400 申请日：2017-09-19
- 公开(公告)号：TW202003484A 公开(公告)日：2020-01-16
- 发明人： 拉博梅 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 卡麥隆 詹姆士F , CAMERON, JAMES F.
- 申请人： 美商羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 专利权人： 美商羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 当前专利权人： 美商羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 代理人： 洪武雄; 陳昭誠
- 优先权： 15/281,683 20160930
- 主分类号： C07D333/76
- IPC分类号： C07D333/76 ; C07C381/12 ; G03F7/004 ; G03F7/038 ; H01L21/027
摘要：
一種具有式(I)之光可破壞淬滅劑： 其中在式(I)中，基團及變數與說明書中所描述的相同。
摘要（中）：
一种具有式(I)之光可破坏淬灭剂： 其中在式(I)中，基团及变量与说明书中所描述的相同。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D333/00 | 杂环化合物，含五元环，有1个硫原子作为仅有的杂环原子 |
| --------C07D333/02 | .不和其他环稠合 |
| ----------C07D333/76 | ..二苯并噻吩 |