基本信息:
- 专利标题： 氨水溶液的製造裝置及氨水溶液的製造方法
- 专利标题（中）：氨水溶液的制造设备及氨水溶液的制造方法
- 申请号：TW106108436 申请日：2017-03-15
- 公开(公告)号：TW201829320A 公开(公告)日：2018-08-16
- 发明人： 小川祐一 , OGAWA, YUUICHI
- 申请人： 栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
- 专利权人： 栗田工業股份有限公司,KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
- 当前专利权人： 栗田工業股份有限公司,KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
- 代理人： 葉璟宗; 鄭婷文; 詹富閔
- 优先权： 2017-022518 20170209
- 主分类号： C02F1/68
- IPC分类号： C02F1/68 ; B01F1/00 ; B01F3/04 ; C11D7/04 ; C11D7/32 ; H01L21/67
摘要：
本發明提供一種可以穩定的濃度製造氨水溶液，且相對於濃度的變更的追隨性優異的氨水溶液製造裝置。氨水溶液製造裝置藉由自氨供給裝置將氨供給至由超純水製造裝置所供給的超純水中並使其溶解，從而製造稀氨水溶液，並將該氨水溶液供給至使用點。此處，超純水製造裝置具有供給電阻值為18 MΩ·cm以上且金屬離子濃度為1 ng/L以下、尤其0.1 ng/L以下的超純水W的能力。然後，自氨供給裝置將氨添加於超純水W中而製造稀氨水。該氨水溶液製造裝置較佳為製造氨（銨離子）的濃度為100 mg/L以下、尤其50 mg/L以下的稀氨水。
摘要（中）：
本发明提供一种可以稳定的浓度制造氨水溶液，且相对于浓度的变更的追随性优异的氨水溶液制造设备。氨水溶液制造设备借由自氨供给设备将氨供给至由超纯水制造设备所供给的超纯水中并使其溶解，从而制造稀氨水溶液，并将该氨水溶液供给至使用点。此处，超纯水制造设备具有供给电阻值为18 MΩ·cm以上且金属离子浓度为1 ng/L以下、尤其0.1 ng/L以下的超纯水W的能力。然后，自氨供给设备将氨添加于超纯水W中而制造稀氨水。该氨水溶液制造设备较佳为制造氨（铵离子）的浓度为100 mg/L以下、尤其50 mg/L以下的稀氨水。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C02 | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ----C02F | 水、废水、污水或污泥的处理 |
| ------C02F1/00 | 水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先 |
| --------C02F1/68 | .添加特定的物质，如微量元素以改善饮用水质 |