基本信息:
- 专利标题： 透過自組裝單層形成而成的選擇性沉積
- 专利标题（英）：SELECTIVE DEPOSITION THROUGH FORMATION OF SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS
- 专利标题（中）：透过自组装单层形成而成的选择性沉积
- 申请号：TW106114959 申请日：2017-05-05
- 公开(公告)号：TW201816161A 公开(公告)日：2018-05-01
- 发明人： 卡契恩 潔西卡瑟凡恩 , KACHIAN, JESSICA SEVANNE , 高夫曼歐斯柏恩 托賓 , KAUFMAN-OSBORN, TOBIN , 湯普森 大衛 , THOMPSON, DAVID
- 申请人： 應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人： 應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人： 李世章; 彭國洋
- 优先权： 62/332,524 20160506
- 主分类号： C23C16/02
- IPC分类号： C23C16/02 ; C23C16/04 ; C23C16/40 ; C23C16/455 ; C23C16/56 ; H01L21/02
摘要：
本發明描述了相對第二基板表面將膜選擇性地沉積在第一基板表面上之方法。該方法包括自組裝單層在第二表面上之凈化學吸附以阻止膜沉積在該第二表面上。
摘要（中）：
本发明描述了相对第二基板表面将膜选择性地沉积在第一基板表面上之方法。该方法包括自组装单层在第二表面上之净化学吸附以阻止膜沉积在该第二表面上。