基本信息:
- 专利标题： 液體處理方法、液體處理裝置及記憶媒體
- 专利标题（英）：Liquid processing method, liquid processing apparatus, and storage medium
- 专利标题（中）：液体处理方法、液体处理设备及记忆媒体
- 申请号：TW106145609 申请日：2013-10-07
- 公开(公告)号：TW201808462A 公开(公告)日：2018-03-16
- 发明人： 吉田勇一 , YOSHIDA,YUICHI , 內藤亮一郎 , NAITOU,RYOUICHIROU , 古庄智伸 , FURUSHO,TOSHINOBU
- 申请人： 日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
- 专利权人： 日商東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： 日商東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 代理人： 周良謀; 周良吉
- 优先权： 特願2012-224331 20121009
- 主分类号： B05C5/02
- IPC分类号： B05C5/02
Disclosed are an apparatus and a method for reducing a processing liquid consumed for removing bubbles from a new filter unit, and shortening a start-up time when the filter unit is attached in a processing liquid supply passage. The method includes: filling the processing liquid into a new filter unit, decompressing inside of the filter unit into a first pressure atmosphere in order to remove bubbles from the filter unit, boosting a pressure of the inside of the filter unit, flowing the processing liquid into the filter unit from a primary side of the filter unit, and supplying the processing liquid flowing from the filter unit to an object to be processed through a nozzle thereby performing a liquid processing and quickly removing the bubbles.
公开/授权文献:
- TWI630032B 液體處理方法、液體處理裝置及記憶媒體 公开/授权日：2018-07-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B05 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法 |
| ----B05C | 一般对表面涂布液体或其他流体的装置 |
| ------B05C5/00 | 将液体或其他流体物质喷射，灌注或让其流到工件表面的装置 |
| --------B05C5/02 | .液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来 |