基本信息:
- 专利标题： 使用多波束工具之背散射電子成像
- 专利标题（英）：Backscattered electrons (BSE) imaging using multi-beam tools
- 专利标题（中）：使用多波束工具之背散射电子成像
- 申请号：TW105129216 申请日：2016-09-09
- 公开(公告)号：TW201721699A 公开(公告)日：2017-06-16
- 发明人： 馬可爾德 馬克 A , MCCORD, MARK A. , 西蒙 理查 R , SIMMONS, RICHARD R. , 馬薩納海提 道格拉斯 K , MASNAGHETTI, DOUGLAS K. , 克尼普梅耶 瑞尼爾 , KNIPPELMEYER, RAINER
- 申请人： 克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
- 专利权人： 克萊譚克公司,KLA-TENCOR CORPORATION
- 当前专利权人： 克萊譚克公司,KLA-TENCOR CORPORATION
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 62/222,351 20150923;15/245,765 20160824
- 主分类号： H01J37/04
- IPC分类号： H01J37/04 ; H01J37/09 ; H01J37/22 ; H01J37/244
摘要：
本發明揭示多波束掃描電子顯微鏡檢測系統。一多波束掃描電子顯微鏡檢測系統可包含一電子源及一小波束控制機構。該小波束控制機構可經組態以利用由該電子源提供之電子而產生複數個小波束且在一時刻遞送該複數個小波束之一者朝向一目標。該多波束掃描電子顯微鏡檢測系統亦可包含一偵測器，其經組態以至少部分基於背散射出該目標之電子而產生該目標之一影像。
摘要（中）：
本发明揭示多波束扫描电子显微镜检测系统。一多波束扫描电子显微镜检测系统可包含一电子源及一小波束控制机构。该小波束控制机构可经组态以利用由该电子源提供之电子而产生复数个小波束且在一时刻递送该复数个小波束之一者朝向一目标。该多波束扫描电子显微镜检测系统亦可包含一侦测器，其经组态以至少部分基于背散射出该目标之电子而产生该目标之一影像。
摘要（英）：
Multi-beam scanning electron microscope inspection systems are disclosed. A multi-beam scanning electron microscope inspection system may include an electron source and a beamlet control mechanism. The beamlet control mechanism may be configured to produce a plurality of beamlets utilizing electrons provided by the electron source and deliver one of the plurality of beamlets toward a target at a time instance. The multi-beam scanning electron microscope inspection system may also include a detector configured to produce an image of the target at least partially based on electrons backscattered out of the target.
公开/授权文献:
- TWI699814B 用於成像之裝置 公开/授权日：2020-07-21