基本信息:
- 专利标题： 清潔配方
- 专利标题（英）：Cleaning formulations
- 专利标题（中）：清洁配方
- 申请号：TW105130675 申请日：2016-09-22
- 公开(公告)号：TW201712110A 公开(公告)日：2017-04-01
- 发明人： 稻岡誠二 , INAOKA, SEIJI
- 申请人： 氣體產品及化學品股份公司 , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 专利权人： 氣體產品及化學品股份公司,AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 当前专利权人： 氣體產品及化學品股份公司,AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 代理人： 陳展俊
- 优先权： 62/222,259 20150923;15/264,078 20160913
- 主分类号： C11D1/40
- IPC分类号： C11D1/40 ; C11D7/28 ; C23G1/18 ; H01L21/306
摘要：
一種有用於自半導體基材移除殘留物的組合物，其依有效清潔量包含：約55至80重量%的水；約0.3至約5.0重量%的EDTA；約10.0至約30.0重量%的胺化合物，其中該胺化合物係選自由二級胺、三級胺及其混合物所組成的群組；約0.1至約5.0重量%的多官能性有機酸；約0.01至約8.0重量%的氟離子來源；約0至約60重量%的水可混溶性有機溶劑；及約0至約15重量%的腐蝕抑制劑。
摘要（中）：
一种有用于自半导体基材移除残留物的组合物，其依有效清洁量包含：约55至80重量%的水；约0.3至约5.0重量%的EDTA；约10.0至约30.0重量%的胺化合物，其中该胺化合物系选自由二级胺、三级胺及其混合物所组成的群组；约0.1至约5.0重量%的多官能性有机酸；约0.01至约8.0重量%的氟离子来源；约0至约60重量%的水可混溶性有机溶剂；及约0至约15重量%的腐蚀抑制剂。
摘要（英）：
A composition useful for removing residue from a semiconductor substrate comprising in effective cleaning amounts: from about 55 to 80% by weight of water; from about 0.3 to about 5.0% by weight of EDTA; from about 10.0 to about 30.0% by weight of an amine compound wherein the amine compound is selected from the group consisting of a secondary amine, a tertiary amine, and mixtures thereof; from about 0.1 to about 5.0% by weight of a polyfunctional organic acid; from about 0.01 to about 8.0% by weight of a fluoride ion source; from about 0 to about 60% by weight of a water-miscible organic solvent; and from about 0 to about 15% by weight of a corrosion inhibitor.
公开/授权文献:
- TWI626305B 清潔配方 公开/授权日：2018-06-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D1/00 | 主要以表面活性化合物为基料的洗涤组合物；使用这些化合物作为洗涤剂 |
| --------C11D1/02 | .阴离子化合物 |
| ----------C11D1/40 | ..单胺或多胺；其盐类 |