基本信息:
- 专利标题： 可濕式剝去之含矽抗反射劑
- 专利标题（英）：Wet-strippable silicon-containing antireflectant
- 专利标题（中）：可湿式剥去之含硅抗反射剂
- 申请号：TW105116160 申请日：2016-05-24
- 公开(公告)号：TW201700658A 公开(公告)日：2017-01-01
- 发明人： 翁耶義 歐文弟 , ONGAYI, OWENDI , 卡特勒 夏洛特 , CUTLER, CHARLOTTE , 李 明琦 , LI, MINGQI , 山田 信太郎 , YAMADA, SHINTARO , 卡麥隆 詹姆斯 , CAMERON, JAMES
- 申请人： 羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 专利权人： 羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 当前专利权人： 羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 代理人： 洪武雄; 陳昭誠
- 优先权： 14/739,402 20150615
- 主分类号： C09D183/04
- IPC分类号： C09D183/04 ; G03F7/11 ; H01L21/027
摘要：
提供包括一或多種含矽聚合物之可濕式剝去之抗反射組合物，該等含矽聚合物不含作為聚合單元之Q單體及氫化矽烷。此等組合物適用於製造多種電子裝置。
摘要（中）：
提供包括一或多种含硅聚合物之可湿式剥去之抗反射组合物，该等含硅聚合物不含作为聚合单元之Q单体及氢化硅烷。此等组合物适用于制造多种电子设备。
摘要（英）：
Wet-strippable antireflective compositions comprising one or more silicon-containing polymers that are free of Q-monomers and hydridosilanes as polymerized units are provided. These compositions are useful in the manufacture of various electronic devices.
公开/授权文献:
- TWI600724B 可濕式剝去之含矽抗反射劑 公开/授权日：2017-10-01