基本信息:
- 专利标题： 潛酸及其用途
- 专利标题（英）：Latent acids and their use
- 专利标题（中）：潜酸及其用途
- 申请号：TW105103180 申请日：2016-02-01
- 公开(公告)号：TW201700468A 公开(公告)日：2017-01-01
- 发明人： 田中慶太 , TANAKA, KEITA , 松岡由記 , MATSUOKA, YUKI , 國本和彥 , KUNIMOTO, KAZUHIKO , 朝倉利景 , ASAKURA, TOSHIKAGE , 倉久稔 , KURA, HISATOSHI
- 申请人： 巴地斯顏料化工廠 , BASF SE
- 专利权人： 巴地斯顏料化工廠,BASF SE
- 当前专利权人： 巴地斯顏料化工廠,BASF SE
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 15153404.7 20150202
- 主分类号： C07D311/12
- IPC分类号： C07D311/12 ; C07D311/16 ; C07D311/18 ; C07D311/92 ; C07D307/68 ; G03F7/004
摘要：
本發明係關於式(I)及(IA)之化合物 其中X為-O(CO)-；R1為C1-C12鹵烷基或C6-C10鹵芳基；R2位於香豆素基環之位置7且為OR8；R2a、R2b及R2c彼此獨立地為氫；R3為C1-C8鹵烷基或C1-C8鹵烷基；R4為氫；且R8為C1-C6烷基；其適合作為用於製備光阻組合物，諸如用於例如製備間隔件、隔離層、層間介電膜、絕緣層、平坦化層、保護層、外塗層、電致發光顯示器及液晶顯示器(LCD)之儲存單元中的感光性酸供體。
摘要（中）：
本发明系关于式(I)及(IA)之化合物 其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤烷基或C6-C10卤芳基；R2位于香豆素基环之位置7且为OR8；R2a、R2b及R2c彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤烷基或C1-C8卤烷基；R4为氢；且R8为C1-C6烷基；其适合作为用于制备光阻组合物，诸如用于例如制备间隔件、隔离层、层间介电膜、绝缘层、平坦化层、保护层、外涂层、电致发光显示器及液晶显示器(LCD)之存储单元中的感光性酸供体。
摘要（英）：
Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12 haloalkyl or C6-C10 haloaryl; R2 is located in posi-tion 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2c independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8 haloalkyl or C1-C8 haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6 alkyl; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, over-coat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).
公开/授权文献:
- TWI687411B 潛酸及其用途 公开/授权日：2020-03-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D311/00 | 杂环化合物，含六元环，有1个氧原子作为仅有的杂环原子，与其他环稠合 |
| --------C07D311/02 | .与碳环或碳环系邻位或迫位稠合 |
| ----------C07D311/04 | ..苯并 |
| ------------C07D311/06 | ...有氧原子或硫原子直接连在位置2上 |
| --------------C07D311/08 | ....杂环不氢化 |
| ----------------C07D311/12 | .....在位置3取代而在位置7未取代 |