基本信息:
- 专利标题： 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器
- 专利标题（英）：Coloring composition, film, color filter, pattern forming method, manufacturing method of color filter, solid state imaging device, and infrared sensor
- 专利标题（中）：着色组成物、膜、彩色滤光片、图案形成方法、彩色滤光片的制造方法、固体摄像组件及红外线传感器
- 申请号：TW104113624 申请日：2015-04-29
- 公开(公告)号：TW201544901A 公开(公告)日：2015-12-01
- 发明人： 瀧下大貴 , TAKISHITA, HIROTAKA , 上村哲也 , KAMIMURA, TETSUYA , 京田浩和 , KYOTA, HIROKAZU , 江副利秀 , EZOE, TOSHIHIDE , 嶋田和人 , SHIMADA, KAZUTO
- 申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
- 专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 代理人： 葉璟宗; 鄭婷文; 詹富閔
- 优先权： 2014-109206 20140527
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C09B67/22 ; C08F20/40 ; G02B5/20 ; G02B5/22 ; G03F7/038 ; H04N5/335 ; H01L27/14 ; H04N5/33
摘要：
一種著色組成物，其包括著色劑與聚合性化合物及樹脂，著色劑的質量P與聚合性化合物的質量M的比率P/M為0.05~0.35，著色組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量為25質量%~65質量%，波長400nm以上、未滿580nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長580nm以上、770nm以下的範圍內的吸光度的最小值B的比率A/B為0.3~3，波長400nm以上、750nm以下的範圍內的吸光度的最小值C與波長850nm以上、1300nm以下的範圍內的吸光度的最大值D的比率C/D為5以上。
摘要（中）：
一种着色组成物，其包括着色剂与聚合性化合物及树脂，着色剂的质量P与聚合性化合物的质量M的比率P/M为0.05~0.35，着色组成物的总固体成分中的聚合性化合物的含量为25质量%~65质量%，波长400nm以上、未满580nm的范围内的吸光度的最小值A与波长580nm以上、770nm以下的范围内的吸光度的最小值B的比率A/B为0.3~3，波长400nm以上、750nm以下的范围内的吸光度的最小值C与波长850nm以上、1300nm以下的范围内的吸光度的最大值D的比率C/D为5以上。
摘要（英）：
A coloring composition includes a coloring agent, a polymerizable compound, and a resin. A ratio P/M of a mass P of the coloring agent to a mass M of the polymerizable compound is 0.05-0.35. A content of the polymerizable compound in a total solid content of the coloring composition is 25wt%-65wt%. A ratio A/B of a minimum A of absorbance having a wavelength of 400nm or more and less than 580nm to a minimum B of absorbance having a wavelength of 580nm or more and 770nm or less is 0.3-3. A ratio C/D of a minimum C of absorbance having a wavelength of 400nm or more and 750nm or less to a maximum D of absorbance having a wavelength of 850nm or more and 1300nm or less is 5 or more.
公开/授权文献:
- TWI636324B 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 公开/授权日：2018-09-21