基本信息:
- 专利标题： 硏磨墊及其製造方法
- 专利标题（英）：Polishing pad and method for producing same
- 专利标题（中）：研磨垫及其制造方法
- 申请号：TW104102699 申请日：2015-01-27
- 公开(公告)号：TW201538699A 公开(公告)日：2015-10-16
- 发明人： 清水紳司 , SHIMIZU, SHINJI
- 申请人： 東洋橡膠工業股份有限公司 , TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
- 专利权人： 東洋橡膠工業股份有限公司,TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
- 当前专利权人： 東洋橡膠工業股份有限公司,TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
- 代理人： 惲軼群; 陳文郎
- 优先权： 2014-051945 20140314
- 主分类号： C09K3/14
- IPC分类号： C09K3/14 ; C08L75/04 ; C08G18/10 ; B24D3/32 ; C08J5/14 ; C08J9/00 ; B24B29/02 ; B24B37/24 ; H01L21/304 ; H01L21/3105 ; H01L21/321
摘要：
本發明之目的在於提供一種研磨速度快且平面化特性優良之研磨墊及其製造方法。該研磨墊具有由聚胺酯樹脂發泡體構成之研磨層，其特徵在於前述聚胺酯樹脂發泡體之形成材料的聚胺酯樹脂，於側鏈具有下述通式(1)所示之烷氧基矽基。 (式中，X為OR1或OH，R1各自獨立為碳數1~4的烷基。)
摘要（中）：
本发明之目的在于提供一种研磨速度快且平面化特性优良之研磨垫及其制造方法。该研磨垫具有由聚胺酯树脂发泡体构成之研磨层，其特征在于前述聚胺酯树脂发泡体之形成材料的聚胺酯树脂，于侧链具有下述通式(1)所示之烷氧基硅基。 (式中，X为OR1或OH，R1各自独立为碳数1~4的烷基。)
摘要（英）：
A polishing pad having a high polishing rate and excellent planarizing properties; and a method for producing the polishing pad. A polishing pad which has a polishing layer comprising a polyurethane resin foam, said polishing pad being characterized in that a polyurethane resin, which is a material used for forming the polyurethane resin foam, has an alkoxysilyl group represented by general formula (1) in a side chain thereof. (In the formula, X represents OR1 or OH; and R1's independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
公开/授权文献:
- TWI540202B 硏磨墊及其製造方法 公开/授权日：2016-07-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09K | 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 |
| ------C09K3/00 | 不包含在其他类目中的材料 |
| --------C09K3/14 | .防滑材料；研磨材料 |